Mphete Yoyang'ana Chamber ya Alumina Yoyera Kwambiri ya Plasma Etch & CVD Systems
Mphete yoyang'ana chipinda cha St.Cera ndi gawo lofunikira kwambiri la zida zogwiritsira ntchito mu zida za semiconductor za plasma etch, CVD, ndi PVD. Yopangidwa kuchokera ku 99.8% alumina yoyera kwambiri (Al₂O₃), mpheteyo imazungulira m'mphepete mwa wafer kuti isunge plasma ndikuwonjezera kugawa kwa ion angular, motero imawongolera kufanana kwa etch pamwamba pa wafer. Zipangizozi zimapereka kukana kwapadera kwa plasma, mphamvu yayikulu ya dielectric (15×10⁶ V/m), komanso kukhazikika kwa kutentha mpaka 1600°C, kuonetsetsa kuti kudalirika kwa nthawi yayitali kumakhala kodalirika m'malo a plasma okhala ndi fluorine kapena chlorine. ID/OD yolondola komanso kusalala (≤10 μm) zimathandiza kuti m'mphepete mwa wafer muyike bwino, kuchepetsa zolakwika m'mphepete komanso kupanga tinthu tating'onoting'ono.
Mafotokozedwe(kutengera 99.8% Al₂O₃):
| Katundu | Mtengo |
| Zinthu Zofunika | 99.8% Alumina (Minyanga ya Njovu) |
| Kuchulukana | 3.93 g/cm³ |
| Kumwa Madzi | 0% |
| Mphamvu Yosinthasintha | 361 MPa |
| Kulimba kwa Kusweka | 3–4 MPa·m¹/² |
| Kuuma kwa Vickers | 16 GPa |
| Modulus ya Achinyamata | 380 GPa |
| Kutentha kwa Matenthedwe | 32 W/m·k |
| Kuwonjezeka kwa Kutentha (25–1000°C) | 7.2×10⁻⁶/℃ |
| Mphamvu ya Dielectric | 15×10⁶ V/m |
| Kukana Kwapadera | >10¹⁴ Ω·cm |
| Kutentha Kwambiri Kwambiri | 1600°C |
Mapulogalamu:
- · Mphete zoyang'ana chipinda cha dielectric etch (oxide, nitride etch)
- · Mphete za m'mphepete mwa chipinda cha Silicon etch
- · Mphete zogwirira ntchito za chipinda cha CVD
- · Mphete zotchingira chipinda cha PVD ndi zomangira
Njira Yopangira:
Ufa wa alumina woyera kwambiri umakanikizidwa mozungulira → wobiriwira wopangidwa kuti ukhale wofanana ndi ukonde → wothira pa 1600°C → Kupukutira kwa diamondi ya CNC ya ID, OD, ndi makulidwe → kupalasa kuti ukhale wosalala ≤10 μm → kuyeretsa kwa ultrasound → 100% CMM kuyang'aniridwa. Kumaliza kwa pamwamba pa Ra ≤0.4 μm kumachepetsa kumatirira kwa tinthu.
Kuwongolera Ubwino:
- · Kuyang'ana 100% (ID, OD, makulidwe, kufanana)
- · Kuyesa kupeŵa utoto poyesa ming'alu yaying'ono (ming'alu siloledwa)
- · Kuyang'ana maso pogwiritsa ntchito maikulosikopu ya 20 × — palibe ming'alu, mabowo, kapena kusintha kwa mtundu
- · Kuyesa mphamvu ya dielectric pa ASTM D149 (chitsanzo)
Ubwino woposa mphete za Silicon kapena Quartz Focus:
- · Moyo wautali wa plasma ya fluorocarbon ndi 5–10×
- · Palibe tinthu tomwe tingawonongeke kuti tiipitse ma wafer
- · Mphamvu zambiri za dielectric zimaletsa kugwedezeka
- · Imasunga kusalala komanso kulondola kwa magawo kwa maola zikwizikwi a RF
Zinthu Zina — Yttria-Stabilized Zirconia (ZrO2)₂):
Pa ntchito zomwe zimafuna kulimba kwambiri kwa kusweka kwa ming'alu (monga zipinda zomwe zimakhala ndi kutentha kwa cyclic kapena kugwedezeka kwa makina), mphete zoyang'ana za ZrO₂ (kuchuluka kwa 6.03 g/cm³, mphamvu yopindika ya 1000 MPa, kulimba kwa kusweka kwa ming'alu ya ...
Kusintha:
- · Ma profiles a masitepe, mabowo ozungulira, kapena mabowo oikira pa chojambula chilichonse cha kasitomala
- · Chophimba cha Y₂O₃ chothandizira kukana kukokoloka kwa plasma (makulidwe 20–100 μm)
- · Kulemba chizindikiro cha laser cha nambala ya gawo, khodi ya deti, kapena zizindikiro zolumikizira
Zindikirani:Deta yonse imatsatira kwambiri tebulo la katundu wa Al₂O₃ lomwe laperekedwa. Kuti mudziwe zambiri za ZrO₂, onani pepala la data la zirconia lomwe laperekedwa. Mapangidwe a mphete yolunjika angafunike chilolezo cha patent - makasitomala ali ndi udindo wotsimikizira ufulu wa katundu wanzeru.
